Rigaku創(chuàng )新技術(shù)公司宣布制造用于壓力校驗儀制造的反射鏡的精密EUVL光學(xué)涂層
對于將晶片圖案高速印刷到晶片上的壓力校驗儀
高性能多層光學(xué)全球供應商Rigaku Innovative Technologies（CTO傳感器）宣布推出一系列用于制造半導體工業(yè)晶片圖案印刷反射鏡的精密極紫外光刻（EUVL）光學(xué)涂層。 CTO傳感器的壓力校驗儀是在掃描儀工具內使用的光鏈的關(guān)鍵要素，其以每小時(shí)125個(gè)晶片的速度將芯片圖案印刷到晶片上。
CTO傳感器涂層用于下一代光刻技術(shù)，其將使得半導體工業(yè)能夠繼續減小印刷晶體管尺寸。這通過(guò)大大增加可以在芯片上印刷的晶體管的數量來(lái)增加器件功能。此外，芯片消耗更少的功率，這是延長(cháng)器件電池壽命的關(guān)鍵因素。新芯片將用于繼續智能手機技術(shù)，GPS設備，家庭娛樂(lè )和許多其他無(wú)線(xiàn)應用的發(fā)展。
CTO傳感器在shijie級壓力校驗儀設計和制造方面擁有30多年的經(jīng)驗，是該行業(yè)非常好的好立體積制造商。它是#早投資研發(fā)用于EUVL設備的多層涂層的公司之一。這種深厚的經(jīng)驗基礎好特地使Rigaku滿(mǎn)足半導體行業(yè)要求的精度要求。
基于其好特的現有“在線(xiàn)”多層涂層沉積系統，CTO傳感器#近開(kāi)發(fā)并安裝了第二個(gè)在線(xiàn)高通量系統。新的沉積系統由兩個(gè)好立的在線(xiàn)系統組成，可同時(shí)沉積4個(gè)直徑達800毫米的大型光學(xué)元件。它還可用于在同步加速器和其他應用中實(shí)現高達1.5米長(cháng)的基板上的高精度涂層，具有復雜的2維d間距分布模式。新系統還具有非常低的缺陷率。
作為x射線(xiàn)/ EUV多層涂層的領(lǐng)導者，Rigaku光學(xué)在整個(gè)產(chǎn)品系列中具有更好的性能和更好的性能一致性。此外，Rigaku已經(jīng)開(kāi)發(fā)了一個(gè)過(guò)程，以翻新光學(xué)接近原始的性能水平。翻新過(guò)程增加了光學(xué)壽命并抵消了污染和輻射損害的影響，對于降低生產(chǎn)成本至關(guān)重要。
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